 |
MV-DP4020-01P
Hikrobot
Gigabit Ethernet (1000 mbit/s), kompatybilny z szybkim Ethernetem (100Mbit/s)
2,5 kHz (maksymalny zakres pomiaru), do 49 kHz (tryb ROI)
| ilość: | |
|---|---|
Funkcje funkcjonalne
Wyposażony w wysoką liczbę klatek na sekundę, wysoką rozdzielczość i duże czujniki obrazu, biorąc pod uwagę przejrzystość obrazowania i wydajność akwizycji szybkiej, zaspokajają potrzeby detekcji szybkiej i precyzyjnej.
Wbudowany moduł przetwarzania FPGA znacznie poprawia wydajność przetwarzania danych, z szybkością skanowania do 49 kHz i obsługuje szybkie aplikacje kontroli linii produkcyjnej.
Wyposażony w dużą otwór w otwór i ultra-uniform Laser Projection rozwiązanie, aby zapewnić spójność jasności obrazowania i dokładności światła strukturalnego oraz dostosować się do różnych złożonych scenariuszy.
W połączeniu z zaawansowanymi algorytmami subpikseli, osiąga dokładność pomiaru na poziomie submikronowym, który jest odpowiedni do precyzyjnego wykrywania produkcji i wykrywania mikrostruktury.
Obsługuje wiele trybów ekspozycji w celu poprawy odporności i zdolności adaptacyjnej systemu w różnych warunkach oświetlenia i materialnych.
Zdolność przywracania konturu jest wzmocniona dzięki algorytmowi fuzji wielokamorowej, skutecznie poprawiając integralność chmury punktowej i przejrzystość krawędzi.
Zapewnia różnorodne opcjonalne algorytmy filtrowania do stabilnego wysyłania wysokiej jakości danych i zmniejszenia zakłóceń błędów i szumu.
Sprzęt ma wysoką integrację, kompaktową strukturę, wygodna instalacja, obsługuje szybkie wdrażanie i wydajne debugowanie oraz skraca cykl importu.
Wymiary zewnętrzne
Funkcje funkcjonalne
Wyposażony w wysoką liczbę klatek na sekundę, wysoką rozdzielczość i duże czujniki obrazu, biorąc pod uwagę przejrzystość obrazowania i wydajność akwizycji szybkiej, zaspokajają potrzeby detekcji szybkiej i precyzyjnej.
Wbudowany moduł przetwarzania FPGA znacznie poprawia wydajność przetwarzania danych, z szybkością skanowania do 49 kHz i obsługuje szybkie aplikacje kontroli linii produkcyjnej.
Wyposażony w dużą otwór w otwór i ultra-uniform Laser Projection rozwiązanie, aby zapewnić spójność jasności obrazowania i dokładności światła strukturalnego oraz dostosować się do różnych złożonych scenariuszy.
W połączeniu z zaawansowanymi algorytmami subpikseli, osiąga dokładność pomiaru na poziomie submikronowym, który jest odpowiedni do precyzyjnego wykrywania produkcji i wykrywania mikrostruktury.
Obsługuje wiele trybów ekspozycji w celu poprawy odporności i zdolności adaptacyjnej systemu w różnych warunkach oświetlenia i materialnych.
Zdolność przywracania konturu jest wzmocniona dzięki algorytmowi fuzji wielokamorowej, skutecznie poprawiając integralność chmury punktowej i przejrzystość krawędzi.
Zapewnia różnorodne opcjonalne algorytmy filtrowania do stabilnego wysyłania wysokiej jakości danych i zmniejszenia zakłóceń błędów i szumu.
Sprzęt ma wysoką integrację, kompaktową strukturę, wygodna instalacja, obsługuje szybkie wdrażanie i wydajne debugowanie oraz skraca cykl importu.
Wymiary zewnętrzne
