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MV-DL2126-04P-R
ヒクロボット
260 mm
470 mm
700 mm
2000 mm
ジゲ
| 量： | |
|---|---|
機能的特徴
1.複雑な材料測定技術は、
第3世代のワイドダイナミックアルゴリズムを採用して、0.5％-98％の表面反射率適応範囲で、高反射金属/暗い光吸収材料の測定問題を解決します。
2.高速運動補償
工業用グレードの動きファジー抑制アルゴリズムは、3m/sの線形速度で測定精度エラー<0.1％を確保し、高速生産ライン検査のニーズを満たすことができます。
3.サブミクロンレベルの分析
特許取得済みサブピクセルエッジポジショニングテクノロジーと、適応補間アルゴリズムと組み合わせて、5mmレベルの絶対精度（@1m測定距離）を達成します。
4.光学システムのイノベーション
•200W高出力レーザーソース、ダイナミックレンジは120dBに拡張されます
•10nm帯域幅狭帯域フィルター、周囲光抑制比> 60dB
5.インテリジェントな同期制御
μsレベルの曝露同期トリガー、タイムベースジッターは<10ns、8時間の連続作業で温度ドリフトが0.01％未満になるようにします。
6.多次元データ出力
3次元サイズデータ（L/W/H±0.05％）
ポイントクラウド密度> 20000ポイント/秒
空間座標位置決め精度±0.1mm
外部寸法
機能的特徴
1.複雑な材料測定技術は、
第3世代のワイドダイナミックアルゴリズムを採用して、0.5％-98％の表面反射率適応範囲で、高反射金属/暗い光吸収材料の測定問題を解決します。
2.高速運動補償
工業用グレードの動きファジー抑制アルゴリズムは、3m/sの線形速度で測定精度エラー<0.1％を確保し、高速生産ライン検査のニーズを満たすことができます。
3.サブミクロンレベルの分析
特許取得済みサブピクセルエッジポジショニングテクノロジーと、適応補間アルゴリズムと組み合わせて、5mmレベルの絶対精度（@1m測定距離）を達成します。
4.光学システムのイノベーション
•200W高出力レーザーソース、ダイナミックレンジは120dBに拡張されます
•10nm帯域幅狭帯域フィルター、周囲光抑制比> 60dB
5.インテリジェントな同期制御
μsレベルの曝露同期トリガー、タイムベースジッターは<10ns、8時間の連続作業で温度ドリフトが0.01％未満になるようにします。
6.多次元データ出力
3次元サイズデータ（L/W/H±0.05％）
ポイントクラウド密度> 20000ポイント/秒
空間座標位置決め精度±0.1mm
外部寸法
