|
MV-DL2126-04P-R
Hikrobot
260 mm
470 mm
700 mm
2000 mm
Giechelen
| hoeveelheid: | |
|---|---|
Functionele kenmerken
1. De complexe materiaalmeettechnologie
neemt het derde generatie brede dynamische algoritme over om de meetproblemen van sterk reflecterende metalen/donkere lichtabsorberende materialen op te lossen met een aanpassingsbereik van de oppervlakte-reflectiviteit van 0,5%-98%.
2. Het high-speed motion compensatie
industriële grade motion fuzzy onderdrukking algoritme kan nog steeds zorgen voor de meetnauwkeurigheidsfout <0,1% met een lineaire snelheid van 3M/s, waardoor voldoet aan de behoeften van de snelle productielijninspectie.
3. Analytische
geatenteerde subpixelrand Positioneringstechnologie op submicron-niveau, gecombineerd met adaptief interpolatie-algoritme, bereikt 5 mm-niveau absolute nauwkeurigheid (@1m meetafstand).
4. Optische systeeminnovatie
• 200W High-Power laserbron, dynamisch bereik uitgebreid tot 120 dB
• 10 nm bandbreedte smalbandfilter, onderdrukking van omgevingslicht> 60 dB
5. Intelligente synchronisatie regelt
μs-niveau blootstellingssynchronisatie-trigger, tijdsbasisjitter is <10ns, waardoor de temperatuurafwijking <0,01% gedurende 8 uur continu werk is.
6. Multidimensionale gegevensuitvoer
Gegevens van driedimensionale grootte (L/W/H ± 0,05%)
Puntwolkendichtheid> 20000 punten/seconde
Ruimtelijke coördinaatpositioneringsnauwkeurigheid ± 0,1 mm
Externe dimensies
Functionele kenmerken
1. De complexe materiaalmeettechnologie
neemt het derde generatie brede dynamische algoritme over om de meetproblemen van sterk reflecterende metalen/donkere lichtabsorberende materialen op te lossen met een aanpassingsbereik van de oppervlakte-reflectiviteit van 0,5%-98%.
2. Het high-speed motion compensatie
industriële grade motion fuzzy onderdrukking algoritme kan nog steeds zorgen voor de meetnauwkeurigheidsfout <0,1% met een lineaire snelheid van 3M/s, waardoor voldoet aan de behoeften van de snelle productielijninspectie.
3. Analytische
geatenteerde subpixelrand Positioneringstechnologie op submicron-niveau, gecombineerd met adaptief interpolatie-algoritme, bereikt 5 mm-niveau absolute nauwkeurigheid (@1m meetafstand).
4. Optische systeeminnovatie
• 200W High-Power laserbron, dynamisch bereik uitgebreid tot 120 dB
• 10 nm bandbreedte smalbandfilter, onderdrukking van omgevingslicht> 60 dB
5. Intelligente synchronisatie regelt
μs-niveau blootstellingssynchronisatie-trigger, tijdsbasisjitter is <10ns, waardoor de temperatuurafwijking <0,01% gedurende 8 uur continu werk is.
6. Multidimensionale gegevensuitvoer
Gegevens van driedimensionale grootte (L/W/H ± 0,05%)
Puntwolkendichtheid> 20000 punten/seconde
Ruimtelijke coördinaatpositioneringsnauwkeurigheid ± 0,1 mm
Externe dimensies
